P501 P501:2017 AIXTRON 研讨会--针对高速增长产业的沉积技术

分会场地:北京首都机场希尔顿酒店会议室31+32
时间安排:11-02 13:30 - 17:30

SSLCHINA P501: 2017 AIXTRON 研讨会--针对高速增长产业的沉积技术

时间:2017112日 13:30-17:00

地点:北京首都机场希尔顿酒店会议室31+32

会议议程/Schedule

时间

题目

时长

13:30 - 13:35

开幕致辞

Michael Heuken 教授

研发副总裁

德国爱思强股份有限公司

5 分钟

13:35 - 14:00

GaN基蓝色和绿色激光二极管的发展

刘建平博士

研究员

苏州纳米技术与纳米仿生研究所

25 分钟

14:00 - 14:25

四元产品稳定量产的MOCVD技术

吴超瑜

副总经理

天津三安光电有限公司

25 分钟

14:25 - 14:50

实现先进技术

Tony Pearce

集团运营副总裁

IQE plc

25 分钟

14:50 - 15:15

基于SiC衬底的宽禁带外延技术

房玉龙博士

专用集成电路国家重点实验室副主任

中国电子科技集团公司第十三研究所

25 分钟

15:15 - 15:40

茶歇

20 分钟

15:40 - 16:05

UVC外延技术的近期发展

程万希

资深工艺工程师

德国爱思强股份有限公司

25 分钟

16:05 - 16:30

Micro LED 显示技术通往高产量MOCVD的道路

Arthur Beckers

资深产品经理

德国爱思强股份有限公司

25 分钟

16:30 - 16:55

使用MOCVD制造下一代电子和光电器件的二维纳米材料

Michael Heuken 教授

研发副总裁

德国爱思强股份有限公司

25 分钟

16:55 - 17:05

Lucky Draw

10 分钟

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