【会议时间】2004年9月15-16日
【会议地点】南昌 (江西饭店)
【主办单位】国家半导体照明工程攻关计划重大项目管理办公室
【承办单位】国家新材料行业生产力促进中心
【协办单位】中国光学光电子行业协会光电器件分会&第九届全国LED产业研讨与学术会议组委会
【支持单位】江西省科学技术厅&江西南昌国家半导体照明工程产业化基地
【会议简介】
　　随着一场抢占半导体照明新兴产业制高点的争夺战在全球展开，我们需要以不同方式在各个层面上与国际开展交流，既要有围绕产业链的大范围、宽领域的国际化论坛，也要寻求与国际知名公司的专家就LED制造与应用的热点和难点问题进行专题性研讨的机会。
　　本研讨班将就外延及芯片技术的有关问题与国外知名企业的专家直接对话，提供深入了解世界先进工艺、技术的交流机会，促进国内企业、研究机构的技术提升，从而推动我国有国际竞争力的半导体照明产业快速、健康地发展。

【研讨内容】

日期	时间	研讨专题	研讨重点	报告人
9月 15日	上午	外延材料 工艺及设备	超高亮度 LED MOCVD 外延过程中几个关键点
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