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低温外延生长技术分析
  时间:2004-9-27  21:44:43    来源:2    作者:2【字体: 】【收藏】【关闭

    C.H.Liu等人对在不同温度条件下掺Mgp-GaN外延层的生长情况所作的实验研究表明,通过降低生长温度至800,能够获得空穴更集中,更粗糙的表面。具有这样在800℃低温下生长的p-GaN层结构的In0.23Ga0.77N/GaN的多量子阱结构(MQWLEDs,能够将LED的工作电压从3.68伏降至3.36伏,并且能增强20mALED的输出功率。但是这样的结构会使LEDs的电流损耗增加,寿命缩短。


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